电子纯试剂是指用于电子工业，特别是半导体、微电子和光伏等领域，对纯度和颗粒污染物有着极致要求的超高纯度化学试剂。
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| 产品名 | 电子纯硫酸 |
| 英文名 | Sulfuric Acid (Electronic Grade) |
| 规格或纯度 | ≥99.999%（MOS级，金属杂质≤1ppb，颗粒≤10个/mL@0.2μm） |
| CAS号 | 7664-93-9 |
| 化学式 | H₂SO₄ |
| 分子量 | 98.08 |
| 环保安全和危险性 | 极强腐蚀性，接触致深度灼伤/脱水炭化，蒸气吸入肺水肿；遇水剧烈放热爆炸；有毒，致癌风险（IARC 1组）；环保上酸雨前体，废液需中和/稀释处理，避免水体酸化；符合SEMATECH，危险品（UN 1830），储存耐酸容器/通风柜，全防护操作，废弃物专业回收。 |
| 核心应用领域 | 半导体晶圆清洗（RCA SC-1/SC-2前处理）、湿法蚀刻（硅/氧化层去除）、电解液（铅酸电池/电镀）、pH调节；广泛在集成电路（12nm以下制程）、光伏硅片、显示面板（TFT-LCD/OLED）制造；超纯级为芯片厂UPW系统标配，兼容自动湿站。 |
| 市场需求概要 | 全球电子化学品市场2025年超800亿美元，电子纯硫酸需求最大（占比15%+），年销量超500万吨；在中国晶圆代工/光伏产能全球60%（年需求300万吨+，台积电/中芯国际/隆基驱动），受益于AI芯片与光伏装机爆发，增长率18-25%，远高于其他电子试剂，供应商如BASF/关东化学/江阴润玛领先。 |
| 产品名 | 电子纯双氧水30%(35%) |
| 英文名 | Hydrogen Peroxide 30%(35%) (Electronic Grade) |
| 规格或纯度 | 30-35%（VLSI级，金属≤10ppt，TOC≤50ppb，颗粒≤5个/mL@0.1μm） |
| CAS号 | 7722-84-1 |
| 化学式 | H₂O₂ |
| 分子量 | 34.01 |
| 环保安全和危险性 | 强氧化分解性，浓溶液接触皮肤灼伤/漂白，蒸气刺激呼吸道；遇有机物/金属剧烈分解爆炸；低毒但分解O₂助燃；环保上可生物降解（过氧化氢酶），废液稀释排放；危险品（UN 2014），储存凉暗防震，操作防混/通风。 |
| 核心应用领域 | 晶圆表面氧化清洗（RCA SC-1与HCl协同）、光刻胶剥离、光伏绒面制备、消毒灭菌；广泛在半导体（FinFET/GAA工艺）、面板（a-Si去除）、LED外延清洗；高浓度级兼容兆声波湿站，减少氟化物使用。 |
| 市场需求概要 | 电子过氧化物市场超150亿美元，双氧水电子级占比最高（70%+），年全球销量超300万吨；在中国芯片/面板产能主导（年需求200万吨+，华为海思/京东方驱动），随7nm以下制程与Mini LED放量，增长率20-28%，位居电子纯试剂TOP2，品牌如Solvay/三菱瓦斯/江阴江化微。 |
| 产品名 | 电子纯异丙醇 |
| 英文名 | Isopropyl Alcohol (Electronic Grade) |
| 规格或纯度 | ≥99.999%（CMOS级，水分≤50ppm，金属≤1ppt，蒸发残渣≤1ppm） |
| CAS号 | 67-63-0 |
| 化学式 | C₃H₈O |
| 分子量 | 60.1 |
| 环保安全和危险性 | 高度易燃（闪点12°C），蒸气爆炸混合；低毒，吸入致晕眩/肝损伤；皮肤脱脂刺激；环保上VOC但可回收蒸馏，生物降解快；危险品（UN 1219），储存防爆柜，操作接地/通风。 |
| 核心应用领域 | 晶圆/掩膜版干燥清洗（RCA后脱水）、光刻胶稀释/去除、精密光学镜头擦拭；广泛在半导体（BEOL清洗）、光伏（硅片IPA干燥）、显示（ITO玻璃清洁）；无水级为N₂吹扫干燥标配，替代氟利昂。 |
| 市场需求概要 | 电子醇类市场约120亿美元，电子纯IPA需求领先（占比55%），年销量超150万吨；在中国面板/芯片清洗线高频（年需求100万吨+，TCL华星/维信诺驱动），受益于8K面板与EUV光刻，增长率16-22%，市场需求高于乙醇/丙酮，供应商如Tokuyama/LCY/江阴润玛。 |
| 产品名 | 电子纯氨水25% |
| 英文名 | Ammonia Solution 25% (Electronic Grade) |
| 规格或纯度 | 25% NH₃（ULSI级，金属≤10ppt，颗粒≤3个/mL@0.05μm，TOC≤20ppb） |
| CAS号 | 1336-21-6 |
| 化学式 | NH₄OH |
| 分子量 | 35.05 |
| 环保安全和危险性 | 腐蚀性碱液，蒸气刺激眼睛/呼吸道致盲/肺水肿；鱼毒性高（氨氮富营养）；环保上需中和为铵盐，废气scrubber吸收；危险品（UN 2672），储存耐碱罐/通风，操作全脸防护。 |
| 核心应用领域 | RCA SC-1清洗（粒子/有机物去除）、硅表面氢钝化、pH缓冲、光刻显影辅助；广泛在先进制程（3nm节点）、光伏PERC碱抛、面板TFT碱洗；超纯级兼容单晶圆湿站。 |
| 市场需求概要 | 电子碱类市场超100亿美元，电子纯氨水占比最大（60%+），年全球销量超120万吨；在中国晶圆厂扩张（年需求80万吨+，SMIC/华虹驱动），随GAA晶体管与HKMG工艺，增长率17-23%，位列高需求电子试剂，品牌如BASF/三星电子/上海华谊。 |
| 产品名 | 电子纯磷酸 |
| 英文名 | Phosphoric Acid (Electronic Grade) |
| 规格或纯度 | ≥85%（VLSI级，金属≤5ppt，颗粒≤10个/mL@0.2μm，氯≤50ppt） |
| CAS号 | 7664-38-2 |
| 化学式 | H₃PO₄ |
| 分子量 | 98 |
| 环保安全和危险性 | 中强腐蚀，接触灼伤皮肤/眼睛，蒸气刺激呼吸；磷酸盐水生富营养风险；环保上废液磷回收为肥，符合绿色工艺；危险品（UN 1805），储存塑料罐/通风柜。 |
| 核心应用领域 | 硅氮化物/氧化物湿法蚀刻（Si₃N₄选择性去除）、铝垫蚀刻、光伏磷扩散源、CMP抛光液酸化；广泛在FinFET侧墙、3D NAND、面板像素定义；热磷酸专用于高选择比蚀刻。 |
| 市场需求概要 | 电子酸蚀刻市场约90亿美元，电子纯磷酸需求高（占比40%），年销量超100万吨；在中国存储器/功率器件领域强劲（年需求70万吨+，长江存储/YMTC驱动），受益于HBM与SiC功率芯片，增长率15-20%，市场需求高于硝酸/盐酸，供应商如Rinzl/默克/江阴江化微。 |